Фторопласт пластина 3х150х500 мм Ф4К20

Минимальная толщина листового фторопласта Ф-4, получаемого методом прессования, обычно составляет 0.5-1.0 мм. Более тонкие пленки (толщиной от нескольких микрометров) изготавливаются методами строгания из прессованных заготовок или каландрованием суспензионного фторопласта.

Фторопласт Ф-4 листовой демонстрирует отличную стойкость к нефтепродуктам, включая те, что содержат сернистые соединения. Материал не набухает, не растворяется и не деградирует при контакте с маслами, бензинами и мазутом в пределах рабочих температур.

Фторопласт Ф-4 листовой демонстрирует выдающуюся стойкость к атмосферному старению. При хранении на открытом воздухе в течение 5 лет и более он практически не изменяет своих основных физико-механических свойств. Материал устойчив к воздействию ультрафиолетового излучения, озона, влаги и перепадов температур.

Фторопласт Ф-4 листовой имеет ограниченную стойкость к газообразному фтору даже при температуре 20°С. Элементарный фтор способен химически взаимодействовать с ПТФЭ, особенно в присутствии катализаторов или при повышенном давлении. Длительный контакт или более высокие температуры приводят к деструкции материала.

Стандартные размеры листов фторопласта Ф-4, выпускаемых по ГОСТ 10007-80, могут включать форматы 250х250 мм, 500х500 мм, 1000х1000 мм и другие, с толщинами от 1 мм до 100 мм и более, в зависимости от способа изготовления.

Фторопласт Ф-4 листовой эффективно применяется в качестве уплотнительного материала во фланцевых соединениях при давлении до 6.3 МПа при условии правильного выбора толщины прокладки и обеспечения необходимого момента затяжки. Важно учитывать свойство хладотекучести фторопласта; для более высоких давлений или температур могут потребоваться армированные или композитные прокладки.

В лабораторной практике листы фторопласта Ф-4 находят разнообразное нестандартное применение, например, в качестве химически стойких подложек для проведения реакций, изготовления крышек для лабораторной посуды, элементов вакуумных систем, вкладышей в химические реакторы и сосуды, а также для создания антипригарных поверхностей.